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期刊
ISSN
0913-5685
刊名
電子情報通信学会技術研究報告
参考译名
电子信息通信学会技术研究报告:硅器件和材料
收藏年代
2000~2023
全部
2000
2001
2002
2009
2013
2014
2015
2017
2020
2021
2022
2023
2000, vol.100, no.295
2000, vol.100, no.296
2000, vol.100, no.373
2000, vol.100, no.374
2000, vol.100, no.477
2000, vol.100, no.517
2000, vol.100, no.603
2000, vol.100, no.652
2000, vol.100, no.653
2000, vol.100, no.668
题名
作者
出版年
年卷期
High performance and damage-free plasma etching processor for future ULSI patterning
Seiji Samukawa
2000
2000, vol.100, no.373
Damage-free contact etching using balanced electron drift magnetron plasma
Ryu Kaihara; Masaki Hirayama; Shigetoshi Sugawa; Tadahiro Ohmi
2000
2000, vol.100, no.373
Breakdown mechanism of thin gate oxide films
A. Teramoto; M. Inoue; H. Umeda; Y. Ohno; A. Nishimoto
2000
2000, vol.100, no.373
Hydrogen-free and damage-free nitridation of Si substrate using atomic nitrogen radicals
Yoshihisa Fujisaki; Hiroshi Ishiwara
2000
2000, vol.100, no.373
Improvement of SiO{sub}2/Si interfaces prepared by radical oxygen process
Koji Usuda; Makoto Nagamine; Hitoshi Itoh; Akira Toriumi
2000
2000, vol.100, no.373
Low temperature formation of silicon oxynitride films by microwave-excited high-density Kr/O{sub}2/N{sub}2 plasma
Kazuo Ohtsubo; Yuji Saito; Katsuyuki Sekine; Masaki Hirayama; Shigetoshi Sugawa; Herzl Aharoni; Tadahiro Ohmi
2000
2000, vol.100, no.373
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